Příprava a charakterizace strukturovaných povrchů na bázi křemíku

Abstract

Cílem této práce byl vývoj a optimalizace nového postupu přípravy strukturovaných povrchů na bázi křemíku metodou anizotropního leptání v teplotních spádech. Tyto povrchy byly následně charakterizovány metodami pro zobrazení topografie povrchu mikroskopií atomárních sil (AFM) a skenovací elektronovou mikroskopií (SEM). Byl zkoumán vliv čistoty povrchu, složení leptacího činidla, času leptání, objemu leptacího média, teploty a teplotních spádů. Z výsledků vyplynulo, že volbou optimálních parametrů leptacího procesu a s použitím speciálně upraveného zařízení pro leptání křemíkových waferů lze připravit různě strukturované povrchy s rozdílnou homogenitou pokrytí a velikostí jednotlivých strukturních útvarů.