Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu

Abstract

Jednou z často využívaných aplikací plazmatu je depozice tenkých vrstev na polymerní substráty. Tenké vrstvy mohou modifikovat povrchové vlastnosti substrátu. Polysiloxany jsou polymery na bázi křemíku odolné teplotě, UV záření a oxidaci. Nastavení správných depozičních podmínek (typ reaktoru a jeho geometrická konfigurace, frekvence výboje, výkon, průtok monomeru, tlak, teplota substrátu, velikost a pozice substrátu v reaktoru) je klíčové pro dosažení správných očekávaných vlastnosti povlaku a také jejich reprodukovatelnosti v průmyslovém měřítku. Polysiloxanové vrstvy mohou fungovat kupříkladu jako ochranné vrstvy proti poškrábání, bariérové, izolační a optické vrstvy (i gradientní, nebo vrstvy upravující hydrofilitu substrátu. Tato práce se zabývá nastavením vhodných depozičních parametrů k nanesení polysiloxanové vrstvy na polystyrenový substrát v daných podmínkách (RF kapacitně buzený plazmatický reaktor).