Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem
Zobrazit celý záznam
Není dostupný náhled
Název:
|
Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem |
Autor: |
Navrátil, Jaroslav
|
Vedoucí: |
Urbánek, Michal
|
Abstrakt:
|
Tato diplomová práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu mikrostruktur v komerčně dostupných materiálech Sigma Aldrich fotorezist a KMPR 1010 pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolání a nastavení elektronového svazku. Vyhodnocení mikrostruktur probíhá za pomocí optického mikroskopu, mechanického profilometru a skenovacího elektronového mikroskopu (SEM). |
URI:
|
http://hdl.handle.net/10563/51261
|
Datum:
|
2021-12-31 |
Dostupnost:
|
Bez omezení |
Ústav:
|
Ústav fyziky a mater. inženýrství |
Studijní obor:
|
Materiálové inženýrství |
Citace závěřečné práce
Soubory tohoto záznamu
Tento záznam se objevuje v následujících kolekcích
Zobrazit celý záznam
Prohledat DSpace
Procházet
-
Vše v DSpace
-
Tato kolekce
Můj účet