Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

Repozitář DSpace/Manakin

Jazyk: English čeština 

Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

Zobrazit celý záznam

Není dostupný náhled
Název: Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem
Autor: Navrátil, Jaroslav
Vedoucí: Urbánek, Michal
Abstrakt: Tato diplomová práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu mikrostruktur v komerčně dostupných materiálech Sigma Aldrich fotorezist a KMPR 1010 pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolání a nastavení elektronového svazku. Vyhodnocení mikrostruktur probíhá za pomocí optického mikroskopu, mechanického profilometru a skenovacího elektronového mikroskopu (SEM).
URI: http://hdl.handle.net/10563/51261
Datum: 2021-12-31
Dostupnost: Bez omezení
Ústav: Ústav fyziky a mater. inženýrství
Studijní obor: Materiálové inženýrství


Citace závěřečné práce

Soubory tohoto záznamu

Soubory Velikost Formát Zobrazit Popis
navrátil_2022_dp.pdf 6.645Mb PDF Zobrazit/otevřít None
navrátil_2022_op.pdf 243.5Kb PDF Zobrazit/otevřít None
navrátil_2022_vp.pdf 579.1Kb PDF Zobrazit/otevřít None

Tento záznam se objevuje v následujících kolekcích

Zobrazit celý záznam

Find fulltext

Prohledat DSpace


Procházet

Můj účet